Mintaasztal mozgató rendszer tervezése elektronsugaras litográfiához

Mikro- és nanoelektronika fejlődése megköveteli, hogy a mintázatkialakítás a kutatási fázisban kellő dinamikával rendelkezzen. Az elektronsugaras litográfia (EBL - Electron-beam lithography) kíváló lehetőség a nanoméretű szerkezetek és mintázatok létrehozására.

A tanszéken működő EBL rendszerhez egy léptetőmotoros vezérlést kell illeszteni X és Y irányhoz, amellyel a mintatartó asztalt lehet programozottan mozgatni folyamatosan, illetve eltárolt pozicióadatoknak megfelelően.

A feladat kivitelezése áramköztervezéssel és vezérlő áramkör programozásával jár, amelyhez minden segítséget megkap a hallgató.

A feladat diplomatervvé is fejleszthető.

A feladatra maximum 1 hallgató jelentkezését várjuk!